單項(xiàng)選擇題

浸入式光刻技術(shù)可以使193nm光刻工藝的最小線寬減小到45nm以下。它通過(guò)采用折射率高的液體代替透鏡組件間的空氣，達(dá)到（）的目的。

A.增大光源波長(zhǎng)；
B.減小光源波長(zhǎng)；
C.減小光學(xué)系統(tǒng)數(shù)值孔徑；
D.增大光學(xué)系統(tǒng)數(shù)值孔徑。

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單項(xiàng)選擇題

如果淀積的膜在臺(tái)階上過(guò)度地變薄，就容易導(dǎo)致高的膜應(yīng)力、電短路或者在器件中產(chǎn)生不希望的（）。

A. 誘生電荷
B. 鳥(niǎo)嘴效應(yīng)
C. 陷阱電荷
D. 可移動(dòng)電荷

多項(xiàng)選擇題

采用二氧化硅薄膜作為柵極氧化層，是利用其具有的（）

A.高電阻率；
B.高化學(xué)穩(wěn)定性；
C.低介電常數(shù)；
D.高介電強(qiáng)度。

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