多項(xiàng)選擇題以下關(guān)于砼軸心抗壓強(qiáng)度試驗(yàn)加荷速度的描述符合標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的有（）。
A、＜C30強(qiáng)度等級(jí)的砼加荷速度取每秒0.3～0.5MPa
B、≥C30且＜C60強(qiáng)度等級(jí)的砼加荷速度取每秒0.5～0.8MPa
C、≥C60強(qiáng)度等級(jí)的砼加荷速度取每秒0.8～1.0MPa
D、A、B、C選項(xiàng)都對(duì)
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1.多項(xiàng)選擇題對(duì)非標(biāo)準(zhǔn)試件砼抗壓強(qiáng)度值尺寸換算系數(shù)正確的有（）。
A、小于C60強(qiáng)度等級(jí)的100×100×100mm立方體試件為0.95
B、小于C60強(qiáng)度等級(jí)的200×200×200mm立方體試件為1.05
C、小于C60強(qiáng)度等級(jí)的Φ100×200圓柱體試件為0.95
D、不小于C60強(qiáng)度等級(jí)的砼應(yīng)由試驗(yàn)確定
2.多項(xiàng)選擇題一組砼立方體抗壓試件試驗(yàn)破壞荷載分別為：412kN、394kN、425kN，該組試件抗壓強(qiáng)度值可能是（）。
A、39.0MPa
B、18.2MPa
C、10.2MPa
D、10.8MPa
最新試題
下列是晶體的是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是（）①原材料中雜質(zhì)的種類(lèi)和含量；②雜質(zhì)的分凝效應(yīng)；③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng)；④生長(zhǎng)過(guò)程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污；⑤加入雜質(zhì)量；
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
改良西門(mén)子法的顯著特點(diǎn)不包括（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
用能量（）禁帶寬度的光子照射p-n結(jié)會(huì)產(chǎn)生光生伏特效應(yīng)。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
如在半導(dǎo)體的禁帶中有一個(gè)深雜質(zhì)能級(jí)位于禁帶中央，則它對(duì)電子的俘獲率（）空穴的俘獲率。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題