在通常情況下，GaN呈（）型結構。

一塊半導體壽命τ=15µs，光照在材料中會產(chǎn)生非平衡載流子，光照突然停止30µs后，其中非平衡載流子將衰減到原來的（）。

對于大注入下的直接復合，非平衡載流子的壽命不再是個常數(shù)，它與（）。

下列選項中，對從石英到單晶硅的工藝流程是（）

雜質(zhì)半導體中的載流子輸運過程的散射機構中，當溫度升高時，電離雜質(zhì)散射的概率和晶格振動聲子的散射概率的變化分別是（）

用能量（）禁帶寬度的光子照射p-n結會產(chǎn)生光生伏特效應。

原子晶體中的原子與原子之間的鍵能隨原子間距的而迅速（）

影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是（）①原材料中雜質(zhì)的種類和含量；②雜質(zhì)的分凝效應；③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應；④生長過程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污；⑤加入雜質(zhì)量；

改良西門子法的顯著特點不包括（）

鑄造多晶硅中的氧主要來源不包括（）