A、H2 B、He C、Ar D、N2
A、300ml/min,30ml/min,尾吹氣流量=30ml/min-柱流量 B、175ml/min,4ml/min,30ml/min C、21ml/min,17ml/min,10ml/min D、可以任意設定
A、氧氣有電負性,容易干擾樣品峰,石墨墊密封不好 B、氧氣可以鈍化放射源薄片,石墨墊中含有S會造成基線噪聲太高