最新試題
間接熒光免疫法的優(yōu)點(diǎn)是()
用于放射性標(biāo)記的抗原要求()
影響放射性標(biāo)記物化學(xué)純度的因素有()
放射免疫技術(shù)中理想的標(biāo)記抗原應(yīng)有以下特點(diǎn)()
以下哪些不屬于RIA中標(biāo)記物的鑒定指標(biāo)()