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問答題
【簡(jiǎn)答題】對(duì)減反射膜材料的總體要求；TiO2膜制備工藝，反應(yīng)方程式。
答案：
要求：能具有良好的減反射效果，還要求透明度好，熱膨脹系數(shù)少，與硅片粘附性好，抗輻射，耐腐蝕。噴涂熱（水）解法工藝：利用N...
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問答題
【簡(jiǎn)答題】鋁背電場(chǎng)結(jié)構(gòu)；合金化作用；鋁背電場(chǎng)結(jié)構(gòu)的作用，并解釋為何會(huì)產(chǎn)生這樣的作用。
答案：
鋁背場(chǎng)結(jié)構(gòu)：在pn結(jié)制備完后，在硅片背面淀積一層鋁膜，經(jīng)合金化高溫處理后，在硅片內(nèi)形成p+層（高濃度p型雜質(zhì)層），在硅片...
問答題
【簡(jiǎn)答題】金屬電極作用；對(duì)金屬電極的要求；金屬電極的絲網(wǎng)印刷制作工藝。
答案：
作用：收集電極（少數(shù)載流子）收集光生電流，然后引導(dǎo)到負(fù)載。
要求：
1.與硅片形成良好的歐姆接觸。<...
要求：
1.與硅片形成良好的歐姆接觸。<...
