A.上前牙近遠中總寬度之和相當于兩側口角線之間he堤唇面弧度
B.微笑時唇高線至he平面的距離相當于上中切牙切2/3的高度
C.微笑時唇低線至he平面的距離相當于下中切牙切2/3的高度
D.大笑時唇高線與唇低線至he平面的距離為上下中切牙的牙冠整體高度
E.面型主要有三種類型:方型、卵圓型、尖型
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A.后堤區(qū)位于軟硬腭的前后顫動線之間
B.上頜全口義齒組織面在后堤區(qū)形成后堤,有邊緣封閉作用
C.后堤區(qū)通常呈弓形,其后界中部約位于腭小凹后2mm處
D.后堤區(qū)外端為覆蓋翼上頜切跡的粘膜凹陷
E.在模型顫動線處切1~1.5mm的切跡,將模型前份5mm內(nèi)刮去一層,愈向前刮除愈少
A.2mm
B.5mm
C.7mm
D.10mm
E.12mm
A.0.2~0.5mm
B.0.5~1.0mm
C.1.0~1.5mm
D.1.5~2.0mm
E.2.0~2.5mm
A.5.2mm
B.6.2mm
C.7.2mm
D.8.2mm
E.10.2mm
A.上頜基托后緣兩側應伸展到翼上頜切跡
B.上頜頰側后緣要伸展到上頜結節(jié)的頰間隙內(nèi)
C.在不妨礙周圍組織正?;顒拥那疤嵯?,基托邊緣應盡量伸展
D.上頜基托后緣應止于軟硬腭交界處的軟腭上,蓋過腭小凹后0.5mm
E.上頜的唇頰側邊緣應位于唇頰溝內(nèi)粘膜轉折處,在系帶處要形成切跡
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最新試題
鑄造件可承受極高的應力,并有極薄的橫斷面,適用于活動修復支架、卡環(huán)、基托制作的是()
按照鑄造支架表面形態(tài)分型的是()
烘烤時鑄型口向(),焙燒時鑄型口向()。
以下幾種情況,可以使用可摘局部義齒修復的是()
I型觀測線在設計卡環(huán)時采用()卡環(huán)。
鈷鉻合金的熔解溫度是1200℃,在鑄造時溫度需設置為()
卡環(huán)的結構包括()
理想的鑄造包埋材料應具備的性能有()
III型觀測線是指基牙往()傾斜。
II型卡環(huán)()作用好,()作用差。