A、PHOTOSHOP PSD
B、TIFF
C、JPEG
D、EPS
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A、調(diào)整
B、復制
C、模式
D、運算
A、灰
B、白
C、紅
D、黃
A、128
B、256
C、512
D、1024
A、魔術(shù)棒
B、橡皮擦
C、標尺
D、鋼筆
A、0.01%-1600.00%
B、0.04%-1600.00%
C、0.08%-1600.00%
D、0.1%-1600.00%
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最新試題
燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當光源一定時,版面照度與燈距平方成反比,照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。
調(diào)整圖像時,用色階調(diào)整和自動色階調(diào)整是一樣的。
感光版的涂層越厚,它的反射能力越強,那么曬版時所需的曝光量越小,光滲量和光散射量相應減少,將會造成圖文殘缺或空白部位上臟等故障。
陽圖曬版時,若網(wǎng)點黑度較低,其網(wǎng)點部位也會透過一定量的光能而非完全不透光,使本該不曝光的部位也產(chǎn)生了部分曝光,導致印版的耐印力降低。
翻轉(zhuǎn)型曬版機又可稱為雙面曬版機,它的裝版準備和曝光可同時交替運行,工作效率高,封閉遮光性能好。
對路徑不能直接進行漸變填充。
套規(guī)線時可能套得不準,為了解決這個問題,我們在套規(guī)線的時候一定要用放大鏡復校。
鏈接的圖層可以同時進行移動、縮放和填充等操作。
由于印版經(jīng)常性的和油墨、潤色液及一些化學溶劑接觸,所以要求其具有較強的耐抗性能。但是在為了實現(xiàn)印刷中更容易和化學溶劑作用,印版的化學穩(wěn)定性一般比較差。
平版曬版中,主要應用的光敏物質(zhì)是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。