制氫裝置提量、降量的操作原則什么？

分散控制系統(tǒng)（DCS）一般由過程輸入/輸出接口單元、過程控制單元CRT操作站、高速數(shù)據(jù)通道四部分組成。

反應(yīng)器內(nèi)構(gòu)件主要有哪些？

活塞式壓縮機冷卻系統(tǒng)一般包括（）部分。

簡述變壓吸附的原理？

鍋爐系統(tǒng)中，連續(xù)排污也叫表面排污，其作用主要是排出爐水中的固體雜質(zhì)和松散的水渣。

開工時轉(zhuǎn)化催化劑還原的條件是什么？

簡述制氫PSA在8-2-4工作狀態(tài)的步驟？

在30mL1mol/L氯化鈉溶液和40mL的0.5mol/L氯化鈣溶液混合后，混合溶液中-Cl離子的摩爾濃度為[溶液體積變化忽略不計]（）mol/L。

在裝填加氫催化劑前，若發(fā)現(xiàn)直徑小于0.85mm的催化劑和細粉含量大于0.5m%時，則應(yīng)在裝填前重新過篩。