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多項選擇題

二氧化硅薄膜厚度的測量方法有（）。

A.比色法
B.雙光干涉法
C.橢圓偏振光法
D.腐蝕法
E.電容-電壓法

你可能感興趣的試題

多項選擇題

二氧化硅膜的質(zhì)量要求有（）。

A.薄膜表面無斑點
B.薄膜中的帶電離子含量符合要求
C.薄膜表面無針孔
D.薄膜的厚度達(dá)到規(guī)定指標(biāo)
E.薄膜厚度均勻，結(jié)構(gòu)致密

多項選擇題

解決氧化層中的鈉離子沾污的方法有（）。

A.加強工藝操作
B.加強人體和環(huán)境衛(wèi)生
C.使用高純化學(xué)試劑、高純水和超凈設(shè)備
D.采用HCl氧化工藝
E.硅片清洗后，要充分烘干，表面無水跡