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問(wèn)答題
【論述題】根據(jù)原理分類，干法刻蝕分成幾種？各有什么特點(diǎn)？
答案：
干法刻蝕是采用等離子體進(jìn)行刻蝕的技術(shù)，根據(jù)原理分為濺射與離子銑（物理）、等離子刻蝕（化學(xué)）、反應(yīng)離子刻蝕（物理+化學(xué)）。...
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【論述題】簡(jiǎn)述BOE（或BHF）刻蝕SiO2的原理。
答案：
二氧化硅腐蝕最常見(jiàn)的濕法腐蝕工藝之一是在稀釋的HF溶劑中進(jìn)行的SiO2濕法腐蝕法。常用腐蝕液配比是...
問(wèn)答題
【論述題】射頻放電與直流放電相比有何優(yōu)點(diǎn)？
答案：
直流放電中，電荷在表面的積聚會(huì)使電場(chǎng)減小，直到等離子體消失。在射頻電場(chǎng)中，因?yàn)殡妶?chǎng)周期性地改變方向，帶電粒子不容易到達(dá)電...
