問答題

【論述題】對RTP來說，很難在高溫下處理大直徑晶圓片而不在晶圓片邊緣造成熱塑應力引起的滑移。分析滑移產(chǎn)生的原因。如果溫度上升速度加快后，滑移現(xiàn)象變得更為嚴重，這說明晶圓片表面上的輻射分布是怎樣的？

答案： 硅片熱不均勻的因素三個因素造成硅片的熱不均勻問題（硅片邊緣溫度比中心低）：
圓片邊緣接收的熱輻...
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【論述題】簡述RTP在集成電路制造中的常見應用。
答案： 1）雜質(zhì)的快速熱激活RTP工藝最具吸引力的的熱點之一是晶圓片不用達到熱平衡狀態(tài)，意味著電活性的有效摻雜實際上可以超過固溶...
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【論述題】簡述RTP設備的工作原理，相對于傳統(tǒng)高溫爐管它有什么優(yōu)勢？
答案： RTP工藝是一類單片熱處理工藝，其目的是通過縮短熱處理時間和溫度或只縮短熱處理時間來獲得最小的工藝熱預算（Thermal...
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