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A.擴(kuò)散層質(zhì)量
B.設(shè)計(jì)
C.光刻
A.掩膜版
B.擴(kuò)散
C.光刻
A.化學(xué)刻蝕機(jī)理
B.物理刻蝕機(jī)理
C.物理的濺射刻蝕和化學(xué)的反應(yīng)刻蝕相結(jié)合
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最新試題
器件的橫向尺寸控制幾乎全由()來(lái)實(shí)現(xiàn)。
非接觸式厚膜電路絲網(wǎng)印刷時(shí),絲網(wǎng)與基片之間有一定的距離,稱為間隙,通常為()。
厚膜元件燒結(jié)時(shí),漿料中的固體顆粒由接觸到結(jié)合、自由表面的收縮、空隙的排除、晶體缺陷的消除等都會(huì)使系統(tǒng)的自由能(),從而使系統(tǒng)轉(zhuǎn)變?yōu)闊崃W(xué)中更穩(wěn)定的狀態(tài)。
雙極晶體管的高頻參數(shù)是()。
氣中的一個(gè)小塵埃將影響整個(gè)芯片的()性、()率,并影響其電學(xué)性能和()性,所以半導(dǎo)體芯片制造工藝需在超凈廠房?jī)?nèi)進(jìn)行。
超聲熱壓焊的主要應(yīng)用對(duì)象是超小型鍍金外殼與鍍金管帽的焊接,焊接處依靠()封接,因而外殼零件的平整度和鍍金層厚度是實(shí)現(xiàn)可靠性封接的關(guān)鍵因素。
在低溫玻璃密封工藝中,常用的運(yùn)載劑由2%(質(zhì)量比)的硝化纖維素溶解于98%(質(zhì)量比)的醋酸異戊酯或松油醇中制得,再將20%的運(yùn)載劑與()的玻璃料均勻混合,配成印刷漿料。
外殼設(shè)計(jì)包括()設(shè)計(jì)、熱性能設(shè)計(jì)和結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)三部分,而可靠性設(shè)計(jì)也包含在這三部分中間。
典型的GaAsMESFET結(jié)構(gòu)IC的工藝流程?
平行縫焊的工藝參數(shù)有焊接電流、焊接速度、焊輪壓力和焊輪椎頂角。焊輪壓力影響蓋板和焊環(huán)之間高阻點(diǎn)的()。壓力太大,電阻值下降,對(duì)形成焊點(diǎn)不利,焊輪壓力太小,則造成接觸不良,不但形不成良好點(diǎn)。