問答題

【簡答題】光刻和刻蝕的目的是什么?

答案: 光刻的目的是將電路圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋于硅片表面的光刻膠上,而刻蝕的目的是在硅片上無光刻膠保護(hù)的地方留下永久的圖形。即將圖形轉(zhuǎn)...
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問答題

【簡答題】離子注入后為什么要進(jìn)行退火?

答案:

推進(jìn),激活雜質(zhì),修復(fù)損傷。

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【簡答題】離子注入前一般需要先生長氧化層,其目的是什么?

答案:

氧化層保護(hù)表面免污染,免注入損傷,控制注入溫度。

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