A、調整內外排溫度分布 B、調整機器內的真空度分布 C、調整內外排膜厚分布 D、調整同圈厚度分布
A、400~420nm B、500~530nm C、580~620nm D、630~760nm
A、電子槍 B、擴散泵 C、坩堝盤 D、晶振頭