問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】局部再現(xiàn)性偽裝筆跡不易變化的特征是什么?

答案: 不易改變的特征:
習(xí)慣性的錯(cuò)字、某些字的特殊寫(xiě)法、結(jié)構(gòu)與運(yùn)筆的細(xì)節(jié)特征、標(biāo)點(diǎn)符號(hào)特征、習(xí)慣用語(yǔ)特征等。
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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】局部再現(xiàn)性偽裝筆跡容易變化的特征是什么?

答案:

容易改變的特征:
個(gè)別字的基本寫(xiě)法、某些常用字或偏旁的筆順、某些字的字形和搭配比例、某些筆畫(huà)的運(yùn)筆方向等。

問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】故意改變筆畫(huà)形態(tài)偽裝筆跡有哪幾種?

答案:

(1)弧形字;
(2)空心字;
(3)曲線字;
(4)點(diǎn)線字;
(5)重描字、外加點(diǎn)綴筆畫(huà)字;
(6)尺劃字。

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