純水裝置的主要原料有（）

閥門密封面不嚴(yán)密時(shí)，如有閥門與閥體配合不嚴(yán)密的現(xiàn)象，應(yīng)（）。

接觸氧化法除鐵所用的濾料中，（）的“成熟期”最短。

淋水盤式除氧器的再沸騰用汽量一般為除氧器用汽量的（）。

測(cè)定鍋爐負(fù)荷變化速度對(duì)蒸汽汽質(zhì)的影響時(shí)，試驗(yàn)應(yīng)在鍋爐額定壓力、中間水位和鍋爐含鹽量為最高允許含鹽量的（）的條件下進(jìn)行。