下列操作屬于對(duì)多介質(zhì)過(guò)濾器的清洗操作的有（）。

純水裝置的主要原料有（）

陰離子交換器再生時(shí)氫氧化鈉濃度為（）

陰離子交換器進(jìn)堿需操作的閥門是（）

接觸氧化法除鐵所用的濾料中，（）的“成熟期”最短。

純水裝置的主要輔料有（）

混合床離子交換器再生時(shí)鹽酸耗量為（）g/mol。

陰離子交換器再生時(shí)氫氧化鈉量為（）g/mol。

淋水盤式除氧器的再沸騰用汽量一般為除氧器用汽量的（）。

重力濾池的作用是去除水中懸浮物，主要由（）組成。