單項(xiàng)選擇題

新啟動(dòng)電解槽分子比逐漸下降，最可能原因?yàn)椋ǎ?/h4>

A、添加AlF₃
B、碳渣帶走
C、槽襯吸收
D、高溫?fù)]發(fā)

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單項(xiàng)選擇題

安裝新極時(shí)，陽極高度設(shè)置與殘極相比（）

A、應(yīng)高設(shè)4-5cm
B、應(yīng)高設(shè)1-3cm
C、一致
D、不確定

單項(xiàng)選擇題

電解槽槽膛深度一般為（）mm。

A、450-600
B、500-650
C、400-500
D、550-650

<samp id="an3jc"></samp>