單項(xiàng)選擇題

半導(dǎo)體三極管工作過程中()。

A.發(fā)射區(qū)雜質(zhì)濃度大于基區(qū)雜質(zhì)濃度;
B.發(fā)射區(qū)雜質(zhì)濃度小于基區(qū)雜質(zhì)濃度;
C.發(fā)射區(qū)雜質(zhì)濃度等于基區(qū)雜質(zhì)濃度;
D.發(fā)射區(qū)雜質(zhì)濃度大于集電區(qū)雜質(zhì)濃度。

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