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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】JB/T4730—2005標(biāo)準(zhǔn)關(guān)于缺陷磁痕的觀察有哪些要求？
答案：
1、磁痕的觀察應(yīng)在磁痕形成后立即進(jìn)行。
2、非熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，磁痕的評(píng)定應(yīng)在可見(jiàn)光下進(jìn)行，通常工件被檢表面可見(jiàn)...
2、非熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，磁痕的評(píng)定應(yīng)在可見(jiàn)光下進(jìn)行，通常工件被檢表面可見(jiàn)...
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答案：
JB/T4730—2005標(biāo)準(zhǔn)對(duì)磁軛提升力指標(biāo)的規(guī)定為：當(dāng)使用磁軛最大間距時(shí)，交流電磁軛至少應(yīng)有44N的提升...
問(wèn)答題
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答案：
出現(xiàn)下列情況之一時(shí)，需要復(fù)驗(yàn)：
⑴檢測(cè)結(jié)束時(shí)，用標(biāo)準(zhǔn)試片驗(yàn)證檢測(cè)靈敏度不符合要求時(shí)；
⑵發(fā)現(xiàn)檢測(cè)過(guò)程...
⑴檢測(cè)結(jié)束時(shí)，用標(biāo)準(zhǔn)試片驗(yàn)證檢測(cè)靈敏度不符合要求時(shí)；
⑵發(fā)現(xiàn)檢測(cè)過(guò)程...
