A．中心；
B．近表面；
C．表面上；
D．表面外
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A、隨機(jī)磁化
B、永久磁化
C、周向磁化
D、縱向磁化
A．熒光；
B．自然光；
C．黑光；
D．氖光
A、需要的設(shè)備少
B、檢驗(yàn)速度快
C、成本低
D、容易被吸附
A．受磁鐵強(qiáng)烈吸引；
B．能被磁化；
C．以上都是；
D．以上都不是
A．磁化電壓波動(dòng)時(shí)；
B．磁化電流存在時(shí)；
C．材料呈現(xiàn)出高矯頑力；
D．磁化電流變小時(shí)
最新試題
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：磁粉檢測(cè)的工件表面不得有油脂、鐵銹、氧化皮或其它粘附磁粉的物質(zhì)。
采用剩磁法時(shí)，磁懸液應(yīng)在通電結(jié)束后再施加，一般通電時(shí)間為2～3s。
一般說來，進(jìn)行了周向磁化工件的退磁，應(yīng)先進(jìn)行一次縱向磁化。
C型靈敏度試片與A型靈敏度試片使用方法相同，只是C型靈敏度試片能用于狹小部位。
熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，磁痕的評(píng)定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行，暗室或暗處可見光照度應(yīng)不小于20Lx。
用連續(xù)法檢測(cè)時(shí)，檢測(cè)靈敏度幾乎不受被檢工件材質(zhì)的影響，僅與被檢工件表面磁場(chǎng)強(qiáng)度有關(guān)。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：檢測(cè)后加熱至600℃以上進(jìn)行熱處理的工件，一般可不進(jìn)行退磁。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：直流退磁法是將需退磁工件放入直流磁場(chǎng)中，逐漸減小電流至零。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：磁粉檢測(cè)時(shí)一般應(yīng)選用A1-60/100型標(biāo)準(zhǔn)試片。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。