A.改變RF激勵(lì)位置 B.改變RF激勵(lì)頻率 C.改變層面選擇梯度磁場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)大小 D.改變層面選擇梯度磁場(chǎng)的方向 E.同時(shí)改變RF激勵(lì)位置和層面選擇梯度場(chǎng)強(qiáng)的大小
A.層面選擇梯度磁場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)維持不變,只變化射頻脈沖頻率 B.不斷移動(dòng)射頻脈沖激勵(lì)的位置 C.射頻脈沖頻率不變,改變層面選擇梯度磁場(chǎng)方向 D.射頻脈沖頻率和層面選擇梯度磁場(chǎng)方向都不變 E.同時(shí)改變射頻脈沖頻率和層面選擇梯度磁場(chǎng)方向
A.一個(gè)很弱的均勻磁場(chǎng) B.在一定方向上其強(qiáng)度隨空間位置而變化的磁場(chǎng) C.始終與主磁場(chǎng)同方向的弱磁場(chǎng) D.一個(gè)交變磁場(chǎng),其頻率等于拉莫爾頻率 E.一個(gè)交變磁場(chǎng),其頻率隨自旋質(zhì)子所在位置而不同