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填空題
PECVD所采用的等離子種類有()。
答案:
輝光放電等離子體、射頻等離子體、電弧等離子體
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填空題
物理氣相沉積法是利用()將原料加熱,使之汽化或形成(),在基體上冷卻凝聚成各種形態(tài)的材料(如晶須、薄膜、晶粒等)的方法。其中以()、()較為常用。
答案:
高溫?zé)嵩?;等離子體;陰極濺射法;真空蒸鍍法
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填空題
熔體生長法主要有()等。
答案:
提拉法、坩堝下降法、區(qū)熔法、焰熔法
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