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只有在較高的真空條件中,電子和離子才能高速運(yùn)動(dòng)。
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離子注入的能量遠(yuǎn)低于離子刻蝕和離子濺射沉積。
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離子濺射鍍膜與離子鍍過(guò)程原理是一樣的。
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