問答題

【簡答題】簡述常壓單晶外延和多晶薄膜沉積裝置。

答案： 三種裝置不僅可以用于硅外延生長，也較廣泛的用于GaAs，AsPAs，GeSi合金和SiC等其它外延層生長；還可用于氧化硅...
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問答題

【簡答題】簡述化學(xué)氣相沉積生產(chǎn)裝置
答案：

（1）氣相反應(yīng)室；
（2）加熱系統(tǒng)；
（3）氣體控制系統(tǒng)；
（4）排氣系統(tǒng)
問答題

【簡答題】簡述動量的傳遞方式
答案： 兩種常見的流體流動方式：流速與流向均平順者稱為“層流”；流動過程中產(chǎn)生擾動等不均勻現(xiàn)象的流動形式，則稱為“湍流”。
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