單項(xiàng)選擇題在六西格瑪項(xiàng)目的分析A階段，通過(guò)頭腦風(fēng)暴分析，團(tuán)隊(duì)就問(wèn)題產(chǎn)生的原因提出了眾多的想法。其中有3個(gè)因素是大家認(rèn)為最可能的關(guān)鍵影響因素。但這些因素是否真正對(duì)結(jié)果產(chǎn)生影響，以及除這3個(gè)因素外是否還存在其他關(guān)鍵因素，眾說(shuō)紛紜，團(tuán)隊(duì)不能取得一致意見(jiàn)。作為項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)負(fù)責(zé)人的黑帶，下述陳述中最好應(yīng)該采取哪個(gè)行動(dòng)：（）

A.就下一步應(yīng)采取的措施，征求倡導(dǎo)者的意見(jiàn)
B.針對(duì)這些可能的影響因素，帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)進(jìn)一步制定收集數(shù)據(jù)計(jì)劃并進(jìn)行驗(yàn)證
C.尋找本業(yè)務(wù)領(lǐng)域的專家，按照專家意見(jiàn)采取改進(jìn)措施
D.采用名義組法，根據(jù)大多數(shù)人的意見(jiàn)確定關(guān)鍵影響因素


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1.單項(xiàng)選擇題在選定了六西格瑪項(xiàng)目后，要編寫(xiě)項(xiàng)目特許任務(wù)書(shū)，一個(gè)特許項(xiàng)目任務(wù)書(shū)不應(yīng)包括以下哪項(xiàng)內(nèi)容：（）

A.項(xiàng)目問(wèn)題描述
B.改進(jìn)機(jī)會(huì)描述
C.改進(jìn)目標(biāo)
D.問(wèn)題主要影響因素

4.單項(xiàng)選擇題芯片鍍膜生產(chǎn)車(chē)間每小時(shí)抽5片芯片測(cè)量其鍍膜的厚度，共檢測(cè)了48小時(shí)，獲得240個(gè)數(shù)據(jù)。經(jīng)趨勢(shì)圖分析發(fā)現(xiàn)，各小時(shí)5片鍍膜厚度之均值大體是穩(wěn)定的，數(shù)據(jù)也服從正態(tài)分布。但發(fā)現(xiàn)各小時(shí)內(nèi)的差異較小，但各小時(shí)間差異較大。六西格瑪團(tuán)隊(duì)對(duì)如何進(jìn)行SPC（統(tǒng)計(jì)過(guò)程分析）發(fā)生了分歧。正確的意見(jiàn)是：（）

A.變異來(lái)源不僅包含隨機(jī)誤差。此時(shí)，必須等待清除組間變異變大的情況后，才能使用SPC
B.其實(shí)只要將每小時(shí)芯片鍍膜厚度之均值求出，對(duì)48個(gè)數(shù)據(jù)繪制單值一移動(dòng)極差（X一MR）控制圖即可
C.求出各小時(shí)芯片鍍膜厚度之均值，對(duì)之繪制單值一移動(dòng)極差（X一八妞）控制圖外，再繪制各小時(shí)的極差（R）控制圖，三張控制圖同時(shí)使用即可控制過(guò)程
D.解決此類問(wèn)題的最好方法是使用EWMA控制圖