度盤刻劃誤差，可以按照（）變換水平度盤位置削弱該誤差影響。

偽距測(cè)量缺點(diǎn)有時(shí)間不宜測(cè)準(zhǔn)和（）

若依次采用元素法、主點(diǎn)法或交點(diǎn)法三種路線定義方法，那么路線定義的最終數(shù)據(jù)為最后采用（）的定義方法所得到的有效數(shù)據(jù)。

利用偽距作空間交會(huì)來定位點(diǎn)位的方法稱為（）

精密經(jīng)緯儀光學(xué)部件上出現(xiàn)線紋斑，則說明光學(xué)部件有（）現(xiàn)象。

（）常采用獨(dú)立坐標(biāo)系統(tǒng)。

設(shè)A點(diǎn)高程1279.25m，B點(diǎn)上安置經(jīng)緯儀，儀器高為1.43m，平距DAB=341.23m，觀測(cè)A點(diǎn)上覘標(biāo)高為4.0m的目標(biāo)得豎直角為-13°19′00″，則由此算得B點(diǎn)的高程為（）

精密光學(xué)水準(zhǔn)儀的日常保養(yǎng)中，一般使用（）擦拭鏡片。

同步基線是利用同一時(shí)段的（）同步觀測(cè)站所采集的觀測(cè)數(shù)據(jù)所計(jì)算出的若干基線向量。

全站儀觀測(cè)水平角，下列不符合全站儀主要技術(shù)指標(biāo)規(guī)定的是（）。