光電效應(yīng)發(fā)生的機(jī)率隨什么變化（）

二次波檢測(cè)是一種特殊的檢測(cè)工藝，以下關(guān)于二次波檢測(cè)的做敘述，哪一條是錯(cuò)誤的（）

調(diào)節(jié)掃描速度時(shí)，應(yīng)使（）同時(shí)對(duì)準(zhǔn)相應(yīng)的水平刻度值。

物質(zhì)對(duì)輻射的吸收是隨什么而變（）

通常所謂20KV的X射線是指（）

射線照片上細(xì)節(jié)影像的可識(shí)別性主要決定于（）

一般認(rèn)為表面波探測(cè)的有效深度約為（）

若評(píng)片燈亮度增為原來(lái)的兩倍，則底片透光度（It/I0）變?yōu)樵瓉?lái)的（）

對(duì)于平行于檢測(cè)面的缺陷，一般采用（）檢測(cè)。

底片清晰度與膠片顆粒度的關(guān)系是（）