A.實(shí)用新型專利對于實(shí)用性的要求與發(fā)明專利一致
B.實(shí)用新型專利對于新穎性不作要求
C.實(shí)用新型專利申請的初步審查對于新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性的要求均與發(fā)明專利相同
D.實(shí)用新型專利對于創(chuàng)造性不作要求
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A.不得超出原權(quán)利要求書的記載范圍
B.不得超出原說明書和附圖的記載范圍
C.不得超出原說明書和權(quán)利要求書的范圍
D.不得超出權(quán)利要求書和說明書附圖的范圍
A.申請人可以刪除某個(gè)或者某些必要技術(shù)特征,因?yàn)檫@樣不會擴(kuò)大原申請的范圍
B.說明書中可以補(bǔ)入原權(quán)利要求書中記載而原說明書中沒有描述過的技術(shù)特征,但是不能擴(kuò)大其內(nèi)容
C.附圖中的結(jié)構(gòu)雖然是明顯可見并有唯一解釋,但是由于未在原說明書以及權(quán)利要求書中提及,因此不允許補(bǔ)入說明書和權(quán)利要求書中
D.為了更詳細(xì)地理解說明書和權(quán)利要求書所記載的技術(shù)方案,允許增加一幅附圖
A.審查員審批之日
B.專利局發(fā)出授權(quán)及辦理登記手續(xù)通知書的發(fā)文日
C.授權(quán)公告日
D.專利證書收到日
A.申請人在收到授予實(shí)用新型專利權(quán)及辦理登記手續(xù)的通知書之日起兩個(gè)月內(nèi)提出
B.原實(shí)用新型專利申請已被駁回,但是尚未生效前
C.原實(shí)用新型專利申請已經(jīng)主動撤回
D.原實(shí)用新型專利申請已經(jīng)視為撤回且尚未恢復(fù)
A.實(shí)現(xiàn)核聚變的封閉阱法
B.為實(shí)現(xiàn)核裂變而增加粒子能量的電子對撞法
C.原子能反應(yīng)堆裝置
D.由原子能反應(yīng)堆裝置制得的一種新的放射性同位素
最新試題
對外觀設(shè)計(jì)的理解,下面選項(xiàng)哪個(gè)是正確的?()
組合物權(quán)利要求有下述哪些形式?()
無效宣告具有的法律后果為下列哪個(gè)選項(xiàng)?()
發(fā)明被認(rèn)為具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)是指()。
我國專利法所指的現(xiàn)有技術(shù)是指下列中的哪項(xiàng)?()
審查發(fā)明或者實(shí)用新型專利申請的實(shí)用性時(shí),應(yīng)當(dāng)遵循的包括下述哪項(xiàng)?()
以下哪個(gè)具體行政行為能申請復(fù)議?()
實(shí)質(zhì)審查程序的終止條件為下述哪項(xiàng)?()
2001年實(shí)施的新專利法對我國原專利法修改的部分有哪些?()
專利申請應(yīng)當(dāng)符合單一性的要求主要原因是下述哪項(xiàng)?()