A.大 B.小 C.相同 D.無(wú)要求
A.重新磨光打點(diǎn) B.無(wú)須處理可上機(jī) C.重新打點(diǎn) D.重新磨光
A、硅鋇粉 B、膨化珍珠巖 C、石英砂 D、石墨粉
A、0.5 B、0.8 C、1.0 D、2
A、避渣 B、限制流量 C、增碳 D、減小流量