A.選磨正中早接觸時(shí)，主要選磨與早接觸支持尖相對(duì)應(yīng)的近遠(yuǎn)中邊緣嵴和中央窩 B.選磨側(cè)方干擾時(shí)，選磨非支持尖上的干擾點(diǎn) C.選磨側(cè)方干擾時(shí)，如為尖牙的干擾通常以選磨上尖牙為主 D.前伸不干擾時(shí)，如前牙接觸而后牙不接觸時(shí)，選磨以下前牙唇斜面為主 E.前伸不干擾時(shí)，如后牙接觸而前牙不接觸時(shí)，選磨上牙尖的遠(yuǎn)中斜面或下牙尖的近中斜面
A.0.5mm B.0.45～0.49mm C.0.35～0.44mm D.0.25～0.34mm E.＜0.2mm
A.消除早接觸點(diǎn) B.減少牙周組織所受的側(cè)向力 C.降低臨床牙冠長(zhǎng)度 D.避免前牙因后牙推動(dòng)而擁擠 E.減小深覆蓋程度
A.皮膚 B.皮下組織 C.筋膜淺層 D.粘膜 E.骨膜
A.復(fù)面嵌體B.3/4冠C.烤瓷冠D.鑄造全冠E.樁核冠
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早接觸時(shí)，主要選磨與早接觸支持尖相對(duì)應(yīng)的近遠(yuǎn)中邊緣嵴和中央窩